應(yīng)用范圍
本霍爾離子源用于真空鍍膜過(guò)程中基底離子轟擊清潔及沉積過(guò)程中離子轟擊能量輸送。廣泛應(yīng)用于:增透膜、眼鏡鍍膜、光纖光學(xué)、高反鏡、熱/冷反光鏡、低漂移濾波器、帶通濾波器、在線清洗等。能夠改善薄膜的生長(zhǎng)，優(yōu)化薄膜結(jié)構(gòu)，增加鍍膜的一致性和重復(fù)性，低溫高速率鍍膜，清除工件表面水和碳?xì)浠衔?，增加薄膜密度，清除結(jié)合力弱的分子，反應(yīng)氣體活度增加，薄膜成分易于控制。
產(chǎn)品特點(diǎn)
霍爾等離子體離子源，適合輔助鍍膜工藝要求，其突出的特點(diǎn)是小型化、結(jié)構(gòu)緊湊、易于拆裝。在制造高質(zhì)量的光學(xué)薄膜時(shí)它對(duì)改進(jìn)膜的附著力、致密度、吸收度、折射率有所貢獻(xiàn)。JK-530N型霍爾離子源直徑$16.2cm，采用永久磁鐵并利用極靴，沿軸向產(chǎn)生較大梯度的磁場(chǎng)，在環(huán)狀的霍爾電流作用下，離子沿軸向加速形成離子束。離子?xùn)|具有較大的能散度及較大的發(fā)散角，水冷陽(yáng)極可有效降低離子源及工件表面的溫度。該離子源電源結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可以實(shí)現(xiàn)輔助鍍膜所需要的大均勻區(qū)的離子?xùn)|流。單臺(tái)離子源就可以滿足600mm-1600mm鍍膜機(jī)的離子束輔助鍍膜需要。
