技術(shù)指標(biāo)及使用要求:
1、陽極最大電壓:300V;陽極最大工作電流10A
2、發(fā)射極最大電壓:100V;最大工作電流13A
3、維持極最大電壓:1500V;最大工作電流2000mA
4、輸入電網(wǎng)電壓:AC220V±10%最大電流AC25A
5、離子出射角:60°，出射口直徑45mm
6、中和器鉭管工作壽命:80-200小時(shí)(根據(jù)使用條件確定)
7、中和器使用氣體:純Ar，純度>99.999%;
8、陰極最大流量:50sccm，壓強(qiáng)≤0.2MPa(建議恒定在0.2MPa
9、源頭氣體流量:50sccm+50sccm，壓強(qiáng)≤0.2MPa
10、工作環(huán)境真空度:5*10-2Pa-5*10-3Pa
11、冷卻水壓強(qiáng):20.3Mpa，請使用純凈水或過濾水
12、冷卻水溫度:≤20C°內(nèi)工作。
中空陰極霍爾離子源廣泛應(yīng)用于:增透膜、眼鏡鍍膜、光纖光學(xué)、高反鏡熱/冷反光鏡、在線清洗等。具有大電流密集性、全束電流和低能量束的特性優(yōu)化了對各種性能的提高和反應(yīng)過程。特別適合在工業(yè)上的真空應(yīng)用,能夠改善薄膜的生長、優(yōu)化薄膜結(jié)構(gòu)，增加鍍膜的一致性和重復(fù)性，低溫高速率鍍膜，清除工件表面水和碳?xì)浠衔?，增加薄膜密度，降低?nèi)應(yīng)力低，清除結(jié)合力弱的分子，反應(yīng)氣體活度增加，膜成分易于控制。包括如下:
預(yù)清潔-低能量離子束預(yù)先清洗和去除表面污染物(水蒸汽、碳?xì)浠衔铩⑻烊谎趸衔锖臀招圆牧?,以提高薄膜/基層物的附著性。
離子輔助沉積-離子轟擊基片有助于薄膜的生長、提高附著力和硬度,同時(shí)減少吸收性殘余氣體的污染物和薄膜應(yīng)力。
充分借鑒國內(nèi)外先進(jìn)的霍爾離子源的優(yōu)點(diǎn)，具有獨(dú)特的水冷和密封結(jié)構(gòu)，經(jīng)多次長時(shí)間的實(shí)驗(yàn)證明，離子源能夠在很大的等離子體束流下長期穩(wěn)定工作
