設(shè)備型號:ZZS-1550光學(xué)真空鍍膜機 | |
腔體尺寸:φ1550xH1600mm | 恢復(fù)真空:4x10-3Pa,小于12分鐘 |
工件盤:φ1410 | 加熱溫度:上烘烤300°C |
晶控:XTC-3+六探頭 | 所需電力:三相、380V、50HZ |
電子槍:雙槍 | 設(shè)備進水壓:0.3~0.4MPa |
真空系統(tǒng):羅茨泵+雙級旋片泵+擴散泵 | 所需氣壓:0.5~0.7MPa |
極限真空:3x10-4Pa | 設(shè)備重量:約8T |
真空鍍膜設(shè)備的具體配置可根據(jù)客戶的鍍膜工藝要求進行量身設(shè)計及制作 |
成都國泰光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì)薄膜的工藝過程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。
